Розподіл фосфору в орному шарі залежить від способу основного обробітку ґрунту

Оранка в системі полицевого основного обробітку ґрунту рівномірно розподіляє фосфор по профілю орного шару (різниця за його вмістом між шарами не перевищує 3–6 %).

Про це свідчать результати досліджень науковців Інституту сільського господарства Карпатського регіону НААН щодо впливу способу основного обробітку посівів ріпаку озимого (оранка на 20-22 см, на 25-27 см і на 14-16 см, поверхневий обробіток на 10-12 см). Дослідження проводились на дернових опідзолених ґрунтах, які погано забезпечені фосфором і калієм.

Застосування мілких і поверхневого обробітків ґрунту призводить до істотної диференціації шару, що обробляється. Так, у період сходів ріпаку озимого у варіанті оранки на глибину 20–22 см, уміст рухомого фосфору в шарі 0–30 см сягав 60 мг/кг ґрунту.

Найменший уміст фосфору в шарі 30 см був за поверхневого обробітку ґрунту на глибину 10–12 см (57 мг/кг).

Мілка оранка, поверхневий обробіток підвищили вміст рухомого фосфору в шарі 0–10 см порівняно із звичайною оранкою та знизили в нижніх горизонтах.

На кінець вегетації ріпаку озимого у всіх шарах, у всіх варіантах обробітку відмічено суттєве зменшення фосфатів за рахунок використання рослинами. Проте, закономірність щодо вмісту та розподілу зберігається.